CVD系统以进口电阻丝瑞典为加热元件，采用双层壳体结构和日本岛电控温仪表，能进行40段程序控温，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶纤维材料，具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点，是高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火用的理想产品。
 
　　适用范围：
　　CVD系统设备可在片状或类似形状样品表面沉积SiOx、SiNx、非晶硅、微晶硅、纳米硅、SiC、类金刚石等多种薄膜，并可沉积p型、n型掺杂薄膜。沉积的薄膜具有良好的均匀性、致密性、粘附性、绝缘性。广泛应用于刀具、高精模具、硬质涂层、装饰等领域。

 

　　CVD系统使用特点说明：
　　1、多晶纤维炉膛，节能耐腐蚀：重量轻、升温速度快、节能、省时、耐高温、耐腐蚀、保温性好，能满足何种快速烧结的要求。
　　2、高纯石英炉管炉管采用高纯度石英玻璃材料工艺加工：具有极低的热膨胀系数、耐高温、化学稳定性好、电绝缘性好。
　　3、双层内胆炉壳双层内胆炉壳，配有风冷系统，快速升降温：整个炉体采用双层内胆式结构，中间有气隙隔离，即使炉膛温度高达1200℃，炉体表面仍然可以安全触摸无滚烫感觉。
　　4、真空法兰法兰采用双环密封技术：有效的提高了法兰的气氛性，法兰上装有多种接头，可接电阻真空计、真空波纹管并能做成容易撤卸的铰链式。
　　5、合金电热丝内嵌式合金电热丝，升温快，寿命长：加热元件采用优质内嵌式合金电热丝，发热效率高、耐高温、抗氧化、耐腐蚀、升温快、寿命长、高温变形小、安装维修方便，使用寿命长。
　　6、微电脑PID控制器微电脑PID控制器，操作简便：操作简便，控温准确、可靠、安全多段可编程控制，可以简化复杂的试验过程，真正实现自动控制和运行。