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磁控溅射镀膜仪

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磁控溅射镀膜仪

磁控溅射镀膜仪

下面我们郑州邦达电气有限公司为您介绍关于磁控溅射镀膜仪说明。

该设备是一款小型高真空磁控溅射镀膜仪,主要特点是设备体积小,结构简 单紧凑易于操作,对实验室供电要求低;该系列设备主要部件采用进口或者国内 最优的配置,从而提高设备的稳定

详细介绍

 
该设备是一款小型高真空磁控溅射镀膜仪,主要特点是设备体积小,结构简 单紧凑易于操作,对实验室供电要求低;该系列设备主要部件采用进口或者国内 最优的配置,从而提高设备的稳定性;另外自主开发的智能操作系统在设备的运 行重复性及安全性方面得到更好地保障。
该设备标配 2 只Φ2 英寸永磁靶,直流脉冲溅射电源(用于溅射金属导电材料), 全自动匹配射频溅射电源 (用于溅射绝缘材料)  ,主要用来开发纳米级单层及多  层的金属导电膜、半导体膜以及绝缘膜等。

设备主要配置表
 
真空腔室 1Cr18Ni9Ti 优质不锈钢材质,氩弧焊接,上开盖和前开门结构
 
 
 
 
真空系统
机械泵+分子泵( 国产或进口可选)  ,  极限真空优于 8*10-5 Pa(设 备空载抽真空 24h )  ,大气~8*10-4 Pa≦30min;采用电阻电离一体 化真空规管读取真空度;阀门采用电磁驱动挡板阀和手动限流阀;
充气系统标配 10sccm/50sccm 质量流量计各 1 套
 
 
 
溅射系统
Ф2 英寸永磁靶 2 支 (含靶挡板)  ,可升级为 3 支,兼容直流和射 频,可以溅射磁性材料的靶材;直流脉冲溅射电源,全自动匹配射
频电源可任选;标配冷却水机系统
 
基片台
Ф100mm,高度:60 ~ 120mm 可调,旋转:0-20r/min 可调,
可加热至 300℃,可选配偏压清洗功能
膜厚监控仪 可选配进口或国产单水冷探头膜厚仪
 
控制系统
PLC+触摸屏智能控制系统,具备漏气自检与提示、通讯故障,实现
一键抽停真空
 
设备尺寸
L60cm×W60cm×H96cm 机电一体化机架,预留 1 个 CF35 法兰
接口
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